原標題：一則好消息傳來！國產光刻機領域再次“破冰”，華為的助力來了

國產光刻機

眾所周知，國內的芯片技術由于起步較晚且長期受到國外的技術封鎖和人才壟斷，導致一直處于落后于發(fā)達國家的水平，但是目前這種情況已經得到了較大的改善。

芯片的生產過程是非常復雜的，從硅的采集，提純到晶圓的切割，光刻八步，再到刻蝕，芯片測試，最后封裝，每一個步驟對技術的要求都十分嚴苛，而光刻正是其中最為關鍵的一個步驟。

那么光刻是通過什么來實現(xiàn)的呢？那就是我們今天的重點，光刻機。光刻機是芯片生產過程中必備的設備，可以說沒有光刻機就無法生產出芯片。

很多人都不知道光刻機具體是干嘛的，簡單來說，光刻機就是一種用紫外線在硅片、石墨烯等晶圓上刻集成電路的系統(tǒng)設備。一臺光光刻機的零配件高達5萬個，制造過程極其復雜，被譽為“現(xiàn)代光學工業(yè)之花”！

我們國家光刻機研發(fā)起步晚，但是追趕速度很快。目前光刻機全球梯隊中，荷蘭的ASML公司是當之無愧的世界第一，掌握著頂尖的光刻機制造技術；其次是日本的尼康等公司，雖然能生產出光刻機，但那也是中低端水平的。

再之后就是我們國內的上海微電子裝備股份有限公司了，這也是目前國內對光刻機研究最深的公司了。上周有媒體報道，上海微電子已經可以交付28nm的光刻機了，但是最近有消息傳來，似乎不只是28nm那么簡單！

據最新消息稱，上海微電子預計在今年12月，將可能下降首臺采用ArF光源的可生產11nm的光刻機。如果采用華卓精科工作臺的套刻精度指標優(yōu)于1.7nm，那么該光刻機將有生產7nm芯片的潛力！

也就是說，國內在光刻機領域取得了巨大的突破，因為之前國內的技術一直停留在14nm技術上。雖然這次光刻機能生產7nm只是說有潛力，但是至少給了我們希望，至少給了科研工作者動力！

華為的助力

此次國內光刻機領域傳出好消息也是華為的一個助力，因為華為目前正面臨著嚴峻的芯片封鎖限制。一旦緩沖期過去后，為華為芯片代工的臺積電可能就會瞬間翻臉，到時候華為的芯片供應就成了巨大的問題。

因為除了臺積電外，國內最先進的代工廠中芯國際的水平只達到了14nm，相比于臺積電的7nm甚至5nm水平來說。有著絕大的差距。而荷蘭ASML公司又不將高端光刻機賣給我們的話，這種情況就真的十分艱難了！

但是現(xiàn)在不一樣了，國產光科技如果不借助ASML公司級就能達到7nm技術的話，這將是一個絕大的飛躍。到時候華為也不用再擔心芯片供應問題了，因為7nm的芯片對華為來說一定是足夠使用的，大不了先把5nm芯片放一放。

所以說，國產光刻機的突破不僅給國內的科研領域帶來的信心，還給華為公司帶來的很大的助力，這或許能讓華為度過接下來的危機。

總結

國產光刻機的突破證明了我國科研工作者的智慧是無窮的，只要繼續(xù)努力，未來一定能再創(chuàng)輝煌。華為雖然目前遭受著嚴峻的考驗，但是國內也表達了對華為的支持，相信華為一定能挺過這次難關！

對于國內光刻機的突破能否成為華為的助力，你們怎么看呢？